半導體行業產生的特種氣體有哪些（半導體特種氣體種類）
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半導體屬于高新技術產業，往往被誤解為“清潔”產業，但事實上，在清洗、光刻、去膠、烘干等工藝中需使用大量的酸、堿及有機溶劑和多種特殊氣體，整個生產過程三廢產量大、種類多。半導體工業用氣體具有品種多、質量要求高、用量少等特點，大部分是有毒或腐蝕性氣體，品種高達百余種。本文將介紹半導體行業產生的特種氣體有哪些？
半導體特種氣體種類
半導體工業特種氣體按照應用分類，主要包括：
1、硅族氣體：含硅基的硅烷類，如硅烷（SiH4）、二氯二氫硅（SiH2Cl2）、乙硅烷（Si2H6）等。
2、摻雜氣體：含硼、磷、砷等三族及五族原子之氣體，如三氯化硼（BCl3）、三氟化硼（BF3）、磷烷（PH3）、砷烷（AsH3）等。
3、蝕刻清洗氣體：以含鹵素的鹵化物及鹵碳化合物為主，如氯氣（Cl2）、三氟化氮（NF3）、溴化氫（HBr）、四氟化碳（CF4）、六氟乙烷（C2F6）等
4、反應氣體：以碳系及氮系氧化物為主，如二氧化碳（CO2）、氨（NH3）、氧化亞氮（N2O）等。
5、金屬氣相沉積氣體：含鹵化金屬及有機烷類金屬，如六氟化鎢（WF6）、三甲基鎵（Ga（CH3）3）等。
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